产品用途:有着高对比度/透射率及色彩饱和度，用于TFT-LCD color filter制程的光刻胶
产品用途:有着高具备高 OD /高阻抗特性，用于TFT-LCD color filter制程的光刻胶
产品用途:具备高感度及高均匀度，用于TFT-Array制程的光刻胶
产品用途:具备高感度及高均匀度，适用于多种工艺流程，用于365nm制程的光刻胶
产品用途:具备高感度及高均匀度，适用于多种工艺流程，用于436nm制程的光刻胶
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李正中
电子化学品技术总监
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