产品用途: 针对集成电路蚀刻前的灰化残留清洁液。

产品用途:具有强清洁力及低基材腐蚀性的CMP制程后清洗液

产品用途:具备优异的剥离能力，用于 TFT-LCD 屏幕的彩色滤光片制程的光阻移除液

产品用途:具备优异的剥离能力，用于 TFT-LCD 屏幕的Array制程的光阻移除液

产品用途:可针对集成电路制程显影前后之光刻胶进行溶解去除，适用范围包含先进制程及封装制程应用。

产品用途:有着高对比度/透射率及色彩饱和度，用于TFT-LCD color filter制程的光刻胶

产品用途:有着高具备高 OD /高阻抗特性，用于TFT-LCD color filter制程的光刻胶

产品用途:具备高感度及高均匀度，用于TFT-Array制程的光刻胶

产品用途:具备高感度及高均匀度，适用于多种工艺流程，用于365nm制程的光刻胶

产品用途:具备高感度及高均匀度，适用于多种工艺流程，用于436nm制程的光刻胶